삼성전자-ASML, 첨단반도체 공정 위한 ‘대형 마스크 컨소시엄’ 협력

삼성전자는 첨단 반도체 제조 역량을 강화하기 위해 네덜란드 장비업체 ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄’에 참여한다고 8일 밝혔다. 현재 6인치인 포토 마스크를 12인치로 전환하기 위한 차세대 기술을 공동 개발해 미세 공정의 생산성을 끌어 올리겠다는 계획이다. ‘포토 마스크’란 웨이퍼에 새길 회로 패턴이 담긴 원판으로 미세 공정에 반드시 필요한 도구다. 카메라 사진으로 치면 일종의 필름과 비슷한 역할로, 반도체 제조사가 웨이퍼에 회로를 그릴 때 포토 마스크를 통해 빛을 투과시켜 패턴을 찍어낸다. 대형 마스크 컨소시엄은 지난 수십 년간 노광 공정에 사용된 6인치 포토 마스크를 12인치로 전환하기 위한 협의체다. 포토 마스크의 크기가 커지면 그만큼 한 번에 넓은 면적의 회로를 웨이퍼에 새길 수 있다. 나누어 새기고 이를 연결하는 등의 작업 부담이 줄어드는 셈으로 공정 불량률과 원가 부담을 크게 낮출 수 있다. ASML은 반도체 회로를 그릴 때 쓰는 노광(露光)장비 분야 세계